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產(chǎn)品應(yīng)用:二
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成:
PECVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配置管內(nèi)測(cè)溫系統(tǒng)。
3.預(yù)加熱開(kāi)啟式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
6.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)
產(chǎn)品特點(diǎn):
生長(zhǎng)溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡(jiǎn)單。
天津中環(huán)電爐股份有限公司 地址:天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號(hào)
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